三氧化钼靶材MoO3磁控溅射靶材

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  • 发布日期:2020-12-29 15:02
  • 有效期至:长期有效
  • 产品区域:北京
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详细说明
 科研实验专用三氧化钼靶材MoO3磁控溅射靶材 电子束镀膜蒸发料
产品介绍
       三氧化钼(MoO3)一般为白色至灰色,墨绿色,微溶于水,溶于浓硝酸、浓盐酸,易溶于浓碱;熔点:795℃,沸点:1155℃;加热时变黄色,冷时即复原;即使在低于熔点情况下,也有显著的升华现象;与碱溶液和许多金属氧化物反应生成钼酸盐和多钼酸盐。用作制取金属钼及钼化合物的原料;石油工业中用作催化剂;还可用于搪瓷釉药颜料及药物等;可作为添加型阻燃剂,具有阻燃和抑烟双重功能,与其他阻燃剂复配可降低成本,提高阻燃性,减小发烟量。
产品参数
中文名 三氧化钼          化学式 MoO3            分子量 144
熔点 795℃                  沸点 1155℃              密度 4.69g/cm3
支持靶材定制,请提供靶材产品的元素、比例(重量比或原子比)、规格,我们会尽快为您报价!! 
服务项目:靶材成份比例、规格、纯度均可按需定制。科研单位货到付款,质量保证,售后无忧!
产品附件:发货时产品附带装箱单/质检单/产品为真空包装
适用仪器:多种型号磁控溅射、热蒸发、电子束蒸发设备 
质量控制:严格控制生产工艺,采用辉光放电质谱法GDMS或ICP光谱法等多种检测手段,分析杂质元素含量保证材料的高纯度与细小晶粒度;可提供质检报告。 
加工流程:熔炼→提纯→锻造→机加工→检测→包装出库
陶瓷化合物靶材本身质脆且导热性差,连续长时间溅射易发生靶裂情况,绑定背靶后,可提高化合物靶材的导热性能,提高靶材的使用寿命。我们强烈建议您,选购陶瓷化合物靶材一定要绑定铜背靶!
       我公司采用高纯铟作为焊料,铟焊厚度约为0.2mm,高纯无氧铜作为背靶。
       注意:高纯铟的熔点约为156℃,靶材工作温度超过熔点会导致铟熔化!绑定背靶不影响靶材的正常使用!
       建议:陶瓷脆性靶材、烧结靶材,高功率下溅射易碎,建议溅射功率不超过3W/cm2。
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