二硼化钛靶材TiB2磁控溅射靶材

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  • 发布日期:2020-12-29 11:32
  • 有效期至:长期有效
  • 产品区域:北京通州区
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详细说明
 科研实验专用二硼化钛靶材TiB2磁控溅射靶材电子束镀膜蒸发料
产品介绍
      二硼化钛(TiB2)是硼和钛-稳定的化合物,为C32型结构,以其价键形式结合,属六方晶系的准金属化合物。具有良好的导电性和金属光泽、高硬度和脆性的特点。二硼化钛粉末是灰色或灰黑色的,熔点:2980℃,密度:4.52 g/cm³n在空气中抗氧化温度可达1000℃,在HCl和HF酸中稳定。二硼化钛主要用于制备复合陶瓷制品;也可用于导电陶瓷材料、陶瓷切削刀具及模具等;由于其可抗熔融金属的腐蚀,可用于熔融金属坩锅和电解池电极的制造。
产品参数
中文名 二硼化钛    化学式 TiB2
熔点 2980℃          密度 4.52 g/cm3
支持靶材定制,请提供靶材产品的元素、比例(重量比或原子比)、规格,我们会尽快为您报价!! 
服务项目:靶材成份比例、规格、纯度均可按需定制。科研单位货到付款,质量保证,售后无忧!
产品附件:发货时产品附带装箱单/质检单/产品为真空包装
适用仪器:多种型号磁控溅射、热蒸发、电子束蒸发设备 
质量控制:严格控制生产工艺,采用辉光放电质谱法GDMS或ICP光谱法等多种检测手段,分析杂质元素含量保证材料的高纯度与细小晶粒度;可提供质检报告。 
加工流程:熔炼→提纯→锻造→机加工→检测→包装出库
陶瓷化合物靶材本身质脆且导热性差,连续长时间溅射易发生靶裂情况,绑定背靶后,可提高化合物靶材的导热性能,提高靶材的使用寿命。我们强烈建议您,选购陶瓷化合物靶材一定要绑定铜背靶!
       我公司采用高纯铟作为焊料,铟焊厚度约为0.2mm,高纯无氧铜作为背靶。
       注意:高纯铟的熔点约为156℃,靶材工作温度超过熔点会导致铟熔化!绑定背靶不影响靶材的正常使用!
       建议:陶瓷脆性靶材、烧结靶材,高功率下溅射易碎,建议溅射功率不超过3W/cm2
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